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NS系列半導(dǎo)體臺(tái)階高度測(cè)量?jī)x器可精準(zhǔn)測(cè)量臺(tái)階高度（納米至1050μm）、表面粗糙度（Ra、Rz等參數(shù)）、膜層厚度及應(yīng)力分布，為材料研發(fā)、工藝優(yōu)化與質(zhì)量管控提供可靠數(shù)據(jù)支持。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光伏、MEMS、光學(xué)加工等領(lǐng)域。

VT6000高精度共聚焦顯微鏡基于共聚焦技術(shù)，結(jié)合精密Z向掃描與智能3D建模算法，可實(shí)現(xiàn)對(duì)納米至微米級(jí)表面形貌的高精度測(cè)量，覆蓋光滑、粗糙、低反射至高反射等多樣化材料表面。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、3C電子、汽車零部件、航空航天、MEMS器件等超精密加工領(lǐng)域，助力企業(yè)提升質(zhì)量控制效率與產(chǎn)品研發(fā)能力。

CEM3000實(shí)驗(yàn)室臺(tái)式掃描電鏡用于對(duì)樣品進(jìn)行微觀尺度形貌觀測(cè)和分析。臺(tái)式結(jié)構(gòu)節(jié)省空間，可置于桌面或狹小環(huán)境（如手套箱、車廂）。

NS系列半導(dǎo)體臺(tái)階儀應(yīng)用場(chǎng)景適應(yīng)性強(qiáng)，其對(duì)被測(cè)樣品的反射率特性、材料種類及硬度等均無(wú)特殊要求，可測(cè)量沉積薄膜的臺(tái)階高度、抗蝕劑（軟膜材料）的臺(tái)階高度等。

CEM3000系列高易用性掃描電鏡高易用性快速成像、一鍵成片，無(wú)需過(guò)多人工調(diào)節(jié)。具有出色的電子光學(xué)系統(tǒng)，優(yōu)于4nm的空間分辨率，保證了高放大倍數(shù)下的清晰成像，能夠滿足納米尺度的形貌觀測(cè)需求。

CEM3000抗振防磁掃描電鏡可以進(jìn)入手套箱、車廂還是潛水器等狹小空間內(nèi)大顯身手。即便在一些常規(guī)電鏡難以耐受的工作環(huán)境中，該系列臺(tái)式電鏡也能憑借抗振防磁技術(shù)，展現(xiàn)出色的性能。也可通過(guò)加裝各類探頭和附件，滿足用戶的拓展性需求，這使其在材料科學(xué)、生命科學(xué)、納米技術(shù)、能源等多個(gè)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。